-

2018-6-09Prinsip Kerja Dan Mod Pulse Magnetron Sputtering
-

2018-6-08Klasifikasi Sasaran Magnetron Cathode Sputtering
Klasifikasi Sasaran Magnetron Cathode Sputtering -

2018-6-08Spesifikasi Dan Perbezaan Tiga Flange Vacuum Biasa (CF, KF, ISO)
Spesifikasi Dan Perbezaan Tiga Flange Vacuum Biasa (CF, KF, ISO) -

2018-6-07Sasaran untuk Lapisan Lapisan Produk Elektronik
Sasaran untuk Lapisan Lapisan Produk Elektronik -

2018-6-07Kerja prinsip asimetri Magnetron berdenyut Sputtering
Kerja prinsip asimetri Magnetron berdenyut Sputtering -

2018-6-06Kelebihan PVD Micro-Nano Coatings
Kelebihan PVD Micro-Nano Coatings -

2018-6-06Masalah-masalah yang dihadapi dengan acuan suntikan dan peranan salutan PVD
Masalah-masalah yang dihadapi dengan acuan suntikan dan peranan salutan PVD -

2018-6-05Masalah Disebabkan Oleh Geseran Dan Pakai Bahagian Mekanikal
Masalah Disebabkan Oleh Geseran Dan Pakai Bahagian Mekanikal -

2018-6-04Penggunaan lapisan karbon seperti Diamond (DLC)
Penggunaan lapisan karbon seperti Diamond (DLC) -

2018-6-04Tekanan Dalaman Dan Pengukuran PVD Vacuum Coating
Tekanan Dalaman Dan Pengukuran PVD Vacuum Coating -

2018-6-02Fabrikasi dan Aplikasi Titanium Aluminium Sasaran untuk PVD Coating
Fabrikasi dan Aplikasi Titanium Aluminium Sasaran untuk PVD Coating -

2018-6-02Ciri-ciri PVD (Penetapan Wap Fizikal) Salutan
Ciri-ciri PVD (Penetapan Wap Fizikal) Salutan


