Bekalan Kuasa Magnetron Bercanggih Tinggi Kuasa Tinggi
Power Supply Pulsar Power Magnetron Pulsed Teknologi Power Sputtering Magnetron Pulsed Tinggi (HIPIMS) ● Daya dorongan DC magnetron konvensional dibatasi oleh tekanan haba sasaran. ● Kebanyakan tenaga collisional ion boleh terus ditukar kepada tenaga terma ...
- pengenalan produk
Kelebihan Teknologi Tinggi Spektroskopi Magnetron Pulsed Tinggi ( HIPIMS )
● Daya dorongan DC magnetron konvensional dihadkan oleh tekanan haba sasaran.
● Kebanyakan tenaga collisional ion boleh terus ditukar kepada tenaga haba sasaran.
● Sumber kuasa magnetron berdenyut memastikan daya nadi tinggi dan kitaran tugas rendah.
● Sumber kuasa magnetron berdenyut boleh terus menggantikan sumber kuasa magnetron DC.
Perbandingan antara Pelepasan Magnetron Sputtering yang Berputar Tinggi dan Pelepasan DC Magnetron Sputtering
Ciri-ciri Pelepasan Magnetron Sputtering Kuasa Tinggi | Ciri-ciri Dc Magnetron Sputtering Discharge |
Voltan pelepasan katod adalah 500 ~ 2000 V, ketumpatan semasa adalah sehingga 3 ~ 4A / cm 2 . | Keamatan medan magnet adalah 0.01 ~ 0.05 T manakala voltan kerja ialah 300 ~ 700 V di bawah tekanan kerja magnetron DC biasa (1 ~ 10 mTorr). |
Ketumpatan elektron berhampiran permukaan substrat : 10 18 ~ 10 19 m - 3 | Ketumpatan elektron berhampiran permukaan substrat: 10 15 ~ 10 16 m -3 |
Ketumpatan kuasa: 1 ~ 3kW / cm 2 | Kadar pengionan rendah (~ 1%) daripada sasaran semasa sputtering. |
Kekerapan: 100 ~ 1000Hz | Ion gas inert adalah dalam majoriti |
Kitaran tugas: 1% ~ 10% | Peralatan tambahan pengionan tambahan (RF microwave) diperlukan. |
Ciri-ciri Bekalan Kuasa Elektrik Berputar Tinggi Kuasa Tinggi
● Pelepasan elektrod yang positif dan negatif dikawal oleh suis berkelajuan tinggi untuk mengelakkan ia memasuki kawasan pelepasan arka dari kawasan pelepasan cahaya yang tidak normal dari magnetron sputtering tradisional. Ketumpatan semasa adalah sehingga 1018- 1019 / m3, yang sangat tinggi berbanding dengan magnetron sputtering tradisional. Dan dengan kadar ionisasi yang sangat tinggi 80% -99%, ia dapat dengan mudah menyimpan pelbagai filem canggih dengan lekatan yang kuat.
● Kekuatan kuasa magnetron sputtering berdenyut tinggi memberikan ciri-ciri filem yang lebih baik dari segi konsistensi filem, kekerasan, rintangan haus dan lekatan.
● Teknologi penindasan arka PHP memastikan pengguna dapat mengawal kualiti filem yang lebih mudah dalam proses rawatan permukaan. Dengan ciri-ciri penstabilan voltan dan rampasan kuasa ideal, bekalan kuasa dapat menghalang pelarasan permukaan bahan kerja dengan berkesan, dan dengan ketara meningkatkan hasil pengeluaran, kehalusan permukaan dan lekatan filem kepingan plating.
● Bekalan kuasa magnetron berdenyut berkuasa tinggi mengamalkan teknologi sumber kuasa pensuisan beralih berkelajuan tinggi dan kuasa tinggi IGBT modul kuasa
● Menggunakan mikropengawal skrin sentuh, bekalan kuasa sangat bersepadu dan berkuasa dengan operasi yang mudah. Paparan arus dan voltan adalah sangat jelas dan intuitif. Juga, ia menyokong fungsi penghalaan berkelajuan tinggi dan fungsi denyutan berkelajuan tinggi.
● Bekalan kuasa mempunyai fungsi perlindungan untuk suhu semasa, lebih-voltan dan lebih tinggi.
● Bekalan kuasa boleh berkomunikasi dengan komputer hos melalui port digital seperti RS232, RS485, WIFI dan sebagainya, yang memperluas fungsi kawalannya.
Spesifikasi produk:
Model Produk | |
Input Kuasa & Kekerapan (V / Hz) Tiga Fasa Dan Empat Kawat | AC380 + N |
| 60Hz | |
Julat Semasa Keluaran (A) | 0 ~ 500 |
Ketepatan Untuk Voltag Tetap dan Masa Tetap | ≤1% |
Voltan Output Rated (DCV) | 800 |
Kuasa Maksimum Maksimum (KW) | 40 |
Kuasa puncak (KW) | 400 |
Kitar tugas (%) | <> |
Berat (KG) | 60 |
Dimensi Luar (MM) | 575 (D) × 480 (W) × 250 (H) |
Gred Penebat | B |
Produktiviti (%) | 90 |
Kelas Perlindungan Lampiran | Ip21 |
Mod operasi | Voltan Yang Berterusan, Mod Kekal Semasa Dan Kekal Selanjar adalah pilihan. |
Mod Penyejukan | Penyejukan air |
Antara Muka Luar | Produk Siri ini semua Adaptasikan Microcontroller Skrin Sentuh |
Perbandingan antara Kuasa Daya Sputtering Impulse Daya Tinggi EP50A80H dan Produk Lain
Daya dorong tinggi Magnetron Sputtering | |||
Jenama | Hauzer | IKS | |
HIPIMS + | EP50A80H | ||
Kuasa Purata Maksimum | 20KW | 20KW | 40KW |
Kuasa puncak | 1MW ~ 8MW | 360KW | 400KW |
voltan | 1KV, 2KV | 800 | 800 |
Semasa | 1KA, 2KA, 4KA | 600 | 500 |
Pengesanan Arc | <> | <> | <> |
Pembungkusan (B * H * T) | 483x635x676 | null | 480x268x700 |
Kelebihan Kuasa Berkilau Magnetron Sputtering Tinggi Kuasa EP50A80H
● Kebolehpercayaan yang tinggi
EP50A80H menyediakan ciri-ciri filem yang lebih baik dari segi konsistensi filem, kekerasan, rintangan haus dan lekatan.
● Teknologi penindasan arka yang sangat baik
EP50A80H mengamalkan teknologi penindasan arka PHP, jadi pengguna dapat dengan mudah mengawal kualiti filem dalam proses rawatan permukaan untuk mendapatkan struktur filem yang lebih baik.
EP50A80H boleh menggantikan bekalan kuasa magnetron sputtering sedia ada secara langsung. Daripada menggantikan bahan katod dan medan magnet, pengguna hanya perlu menukar sistem penyejukan.
● Nisbah kuasa kepada volum yang tinggi
Nisbah isipadu kuasa tinggi menjadikan pemasangan pemasangan peralatan lebih mudah bagi pengguna.
Permohonan
Kuasa tinggi MF magnetron sputtering sumber kuasa digunakan secara meluas dalam bidang penyelidikan saintifik, fizikal, kimia, perubatan dan pelbagai sains, ia dapat memenuhi pelbagai keperluan proses terutama dalam peralatan salutan vakum.
