Seragam Salutan Sputtering

Pakaian seragam salutan sputtering

Untuk salutan sputtering: ia boleh difahami secara ringkas sebagai penggunaan elektron atau pengeboman laser tenaga tinggi sasaran, dan komponen permukaan dalam bentuk kumpulan atom atau ion terpercik keluar, dan akhirnya didepositkan pada permukaan substrat, menjalani proses pembentukan filem, dan akhirnya membentuk filem. Salutan sputtering boleh dibahagikan kepada pelbagai jenis. Secara umumnya, perbezaan antara kadar sputtering dan salutan sejatan ialah kadar sputtering akan menjadi salah satu parameter utama. Dalam salutan sputtering laser pld, keseragaman komponen mudah dikekalkan, tetapi keseragaman ketebalan pada skala atom agak lemah (kerana ia berdenyut sputtering), dan kawalan pertumbuhan kristal (tepi luar) juga agak umum. Mengambil pld sebagai contoh, faktor utama termasuk: tahap padanan kekisi bahan sasaran dan substrat, suasana salutan (suasana gas tekanan rendah), suhu substrat, kuasa laser, kekerapan nadi, masa sputtering. Untuk bahan dan substrat sputtering yang berbeza, parameter terbaik perlu ditentukan oleh eksperimen, yang berbeza. Kualiti peralatan salutan terutamanya bergantung kepada sama ada ia boleh mengawal dengan tepat

suhu, sama ada ia boleh memastikan tahap vakum yang baik, sama ada ia boleh memastikan kebersihan ruang vakum yang baik. Teknologi salutan luar rasuk molekul MBE telah menyelesaikan masalah di atas, tetapi ia pada asasnya digunakan untuk penyelidikan eksperimen. Mesin salutan bersepadu yang biasa digunakan dalam pengeluaran perindustrian adalah berdasarkan salutan penyejatan ion dan salutan sputtering magnetron.

Syarikat IKS PVD, mesin salutan hiasan, mesin salutan alat, mesin salutan DLC, mesin salutan optik, talian salutan vakum PVD, projek kunci-kunci tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mel: iks.pvd@foxmail.com