Kemajuan Teknologi Pemendapan Wap
Dec 22, 2022| Kemajuan teknologi pemendapan wap boleh diringkaskan seperti berikut:
(1) Pembangunan peralatan. Sebagai contoh, peralatan penyejatan berterusan pancaran elektron besar, pelbagai bentuk peralatan pemercik magnetron, penyaduran ion sumber arka baharu dan peralatan penyaduran ion komposit berbilang arka, pelbagai peralatan IBAD dan peralatan implantasi ion rendaman plasma (PIⅢI), dsb.
(2) Kemajuan proses. Ia terutamanya ditunjukkan dalam peningkatan jenis filem dan peningkatan sifat filem. Sebagai contoh, pelbagai filem tahan haus berprestasi tinggi, tahan kakisan, tahan kakisan suhu tinggi, filem penghalang haba, filem nitrida seperti berlian dan boron padu, dan pelbagai filem komposit seramik, kecerunan dan berbilang lapisan telah disediakan. .
(3) Komposisi kaedah. Teknologi pemendapan wap yang paling maju ialah gabungan pemendapan wap fizikal tunggal dan pemendapan wap kimia. Mereka bukan sahaja menggunakan pelbagai sumber pemanasan baharu tetapi juga menggunakan sepenuhnya pelbagai tindak balas kimia, elektromagnet frekuensi tinggi (nadi, frekuensi radio, gelombang mikro, dll.), dan kesan plasma untuk mengaktifkan zarah termendap. Sebagai contoh, penyejatan reaktif, sputtering reaktif, sputtering rasuk ion, pelbagai pemendapan wap kimia yang teruja plasma, dsb., terdapat lebih banyak kaedah komposit dalam peralatan IBAD dan PⅢ. Pengenalan pancaran laser bukan sahaja boleh penyaduran stim tetapi juga komposit dengan cara yang berbeza.
Syarikat IKS PVD, mesin salutan hiasan, mesin salutan alat, mesin salutan DLC, mesin salutan optik, talian salutan vakum PVD, projek kunci-kunci tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mel:iks.pvd@foxmail.com