Parameter Utama yang Mempengaruhi Sputtering
Jun 09, 2018| 1. Ambang Sputtering
Nilai tenaga minimum ion kejadian yang diperlukan untuk memancarkan atom sasaran tidak berkaitan dengan jenis ion kejadian tetapi berkaitan dengan sasaran. Selepas jumlah tenaga melampaui ambang sputtering, hasil sputtering adalah berkadar dengan kuadang tenaga ion sebelum 150 ev kerana tenaga ion meningkat, dan hasil sputtering berkadaran dengan tenaga ion dalam julat 150 ev kepada 1 kev. Dalam lingkungan 1kev ~ 10kev, hasil sputtering berubah sedikit. Apabila tenaga meningkat lagi, hasil pemecahan menunjukkan trend menurun. Berikut adalah ambang-ambang yang terbentuk dari beberapa logam yang dibombardir dengan pelbagai ion kejadian.
| Logam | Ion Sputtering threshod / eV | Sublimation Heat / eV | |||
| Ne | Ar | Kr | Xe | ||
| Ti | 22 | 20 | 17 | 18 | 4.40 |
| Cr | 22 | 22 | 18 | 20 | 5.28 |
| Fe | 22 | 20 | 25 | 23 | 4.12 |
| Cu | 17 | 17 | 16 | 15 | 3.53 |
| Zr | 23 | 22 | 18 | 25 | 6.14 |
| Ag | 12 | 15 | 15 | 17 | 3.35 |
| Au | 20 | 20 | 20 | 18 | 3.20 |
2. Hasil Sputtering
Hasil sputtering merujuk kepada bilangan purata atom setiap ion positif yang boleh dipancarkan dari sasaran apabila ion insiden membombardir sasaran. Faktor-faktor yang mempengaruhi terutamanya termasuk aspek-aspek berikut:
◆ Hasil sputtering menunjukkan tempoh tertentu dengan perubahan bilangan atom sasaran. Dengan peningkatan tahap pengisian elektron d shell atom sasaran, hasil sputtering meningkat (kira-kira berubah trend).
◆ Kesan spesies ion kejadian pada hasil sputtering
Hasil sputtering meningkat secara berkala dengan peningkatan bilangan kejadian atom.
Hasil sputtering perak, tembaga, dan tantalum yang sepadan dengan pelbagai ion insiden 45Kev.
◆ Kesan sudut kejadian ion pada hasil sputtering
Untuk sasaran dan ion kejadian yang sama, hasil sputtering meningkat apabila sudut kejadian ion meningkat. Apabila sudut meningkat kepada 70 ° ~ 80 °, hasil sputtering adalah yang terbesar. Teruskan untuk meningkatkan sudut kejadian, hasil sputtering dikurangkan dengan ketara, dan hasil sputtering adalah 0 pada 900 °.
◆ Kesan suhu sasaran pada hasil sputtering
Secara umum, dalam julat suhu di mana hasil sputtering boleh dianggap berkait rapat dengan tenaga pemejalwapan, hasil sputtering tidak berubah dengan suhu. Jika suhu melebihi julat ini, hasil sputtering cenderung meningkat dengan pesat.
