Mekanisme Reaksi CVD

CVD boleh dilakukan menggunakan pelbagai jenis mekanisme tindak balas, seperti CVD terma, CVD dipertingkat plasma dan CVD dipertingkatkan ringan. Setiap mekanisme mempunyai kelebihan dan kekurangannya, dan pilihan mekanisme bergantung pada sifat dan aplikasi filem yang dikehendaki.
Dalam CVD panas, gas prekursor dipanaskan pada suhu tinggi untuk menggalakkan tindak balas kimia memendapkan filem pepejal pada substrat. Dalam CVD yang dipertingkatkan plasma, gas prekursor diionkan untuk menghasilkan plasma, yang menggalakkan tindak balas kimia dan meningkatkan kadar pemendapan. Dalam CVD yang dipertingkatkan foto, gas prekursor disinari dengan cahaya ultraungu untuk menggalakkan tindak balas kimia.

Syarikat IKS PVD, mesin salutan hiasan, mesin salutan alat, mesin salutan DLC, mesin salutan optik, talian salutan vakum PVD, projek kunci-kunci tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mel: iks.pvd@foxmail.com