Pemendapan Wap Kimia Plasma Frekuensi Radio (RF-PECVD)

Pemendapan wap kimia plasma ialah proses pemendapan wap kimia tekanan rendah. Plasma nyahcas cahaya digunakan untuk mempengaruhi proses, dan filem polihabluran disediakan pada substrat. Kaedah ini dicadangkan oleh Syarikat Benka Jepun pada tahun 1994, dan kaedah penjanaan plasmanya kebanyakannya menggunakan kaedah frekuensi radio, jadi ia dipanggil RF-PECVD. Medan elektrik RF menggunakan dua mod gandingan berbeza, iaitu gandingan induktif dan gandingan kapasitif

Syarikat IKS PVD, mesin salutan hiasan, mesin salutan alat, mesin salutan DLC, mesin salutan optik, talian salutan vakum PVD, projek kunci-kunci tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mel: iks.pvd@foxmail.com