Prinsip Dan Ciri-ciri Sputtering Magnetron
Aug 28, 2024| Prinsip dan ciri-ciri magnetron sputtering
Teknologi sputtering magnetron dibangunkan berdasarkan teknologi sputtering bipolar. Dengan mewujudkan medan magnet ortogonal kepada medan elektrik pada permukaan sasaran sputtering, elektron dipercepatkan oleh medan elektrik dan diikat oleh daya Lorentz medan magnet, supaya trajektori gerakan mereka berubah daripada garis lurus asal kepada sikloid. Dengan memanjangkan trajektori elektron, kebarangkalian perlanggaran antara elektron dan molekul gas boleh ditingkatkan, supaya kadar pengionan gas bertambah baik, dan kemudian ion bertenaga tinggi yang mengebom sasaran akan meningkat, dan kadar sputtering sasaran juga akan meningkat. Oleh kerana perlanggaran berterusan elektron dengan molekul gas dalam proses pergerakan, tenaga elektron telah dikurangkan dengan banyak selepas beberapa perlanggaran, dan kepekatan elektron berhampiran permukaan matriks jauh dari medan magnet adalah rendah, jadi suhu kenaikan disebabkan oleh elektron yang jatuh ke dalam matriks tidak jelas. Ini adalah sebab utama mengapa teknologi sputtering magnetron boleh mencapai "suhu rendah" dan "kelajuan tinggi" pemendapan filem nipis.
Syarikat IKS PVD, mesin salutan hiasan, mesin salutan alat, mesin salutan DLC, mesin salutan optik, talian salutan vakum PVD, projek kunci-kunci tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mel: iks.pvd@foxmail.com