Perkara Utama Magnetron Sputtering Coating

Perkara utama magnetron sputtering coating
Magnetron sputtering adalah teknik pemendapan yang melibatkan plasma gas. Gas plasma dijana dan dikurung di dalam ruang yang mengandungi bahan yang akan didepositkan. Permukaan sasaran sputtering terhakis oleh ion tenaga tinggi dalam plasma, dan atom yang dikeluarkan melalui persekitaran vakum dan deposit pada substrat untuk membentuk filem nipis.

Syarikat PVD IKS, mesin penyapu hiasan, mesin pengkod alat, mesin penyadang optik, talian penyadang vakum PVD. Hubungi kami sekarang, E-mel: iks.pvd@foxmail.com