Pengetahuan Awal Proses Coating Penguapan Vakum
May 23, 2019| Pengetahuan awal proses salutan penyejatan vakum
Komponen utama struktur peralatan penyejatan vakum adalah seperti berikut:
(1) ruang vakum, yang menyediakan ijazah vakum yang diperlukan untuk penyejatan dan menghalang bahan daripada menjadi teroksidasi semasa penyejatan; (2) penyejatan sumber dan penyejatan pemanas, yang kebanyakannya digunakan untuk meletakkan bahan-bahan yang menguap dan memanaskannya; (3) substrat untuk menerima bahan penguapan dan membentuk filem penyejatan pepejal pada permukaannya; (4) pemanas plat asas, digunakan untuk memanaskan plat asas; (5) peranti mengukur suhu adalah peranti pengukur suhu termokopel.
Salutan penyejatan vakum terdiri daripada proses berikut. 1. Proses pemanasan dan penyejatan, termasuk peralihan fasa dari fasa terkondensasi ke fasa gas (fasa pepejal, fasa cecair atau fasa gas). Apabila sebatian dimetulkan dari setiap bahan pada suhu yang berbeza dan pada tekanan wap ketepuan yang berbeza, komponennya bertindak balas antara satu sama lain, beberapa darinya memasuki ruang penyejatan sebagai gas atau wap.2. Pengangkutan atom atau molekul yang diuapkan antara sumber penyejatan dan substrat. Bilangan perlanggaran antara zarah-zarah ini dan molekul gas sisa dalam ruang vakum semasa penerbangan ruang bergantung kepada bilangan perlanggaran antara molekul gas atom-atom yang tersejat, jalur bebas purata atom-atom yang tersejat, dan jarak antara sumber penyejat dan substrat. 3. Proses di mana atom-atom atau molekul-molekul yang diuapkan didepositkan pada substrat, iaitu proses pemeluwapan uap, nukleasi, pertumbuhan nuklear dan pembentukan filem nipis yang berterusan. Oleh kerana suhu substrat jauh lebih rendah daripada sumber penyejatan, peralihan fasa molekul sedimen terus berlaku di permukaan substrat dari fasa gas ke fasa pepejal.
Dalam proses penyejatan vakum, persekitaran vakum untuk lapisan penyejatan mempunyai peranan penting, kerana penyejatan atom atau molekul akan bertabrakan dengan banyak molekul udara, pencemaran lapisan membran, membentuk oksida atau pun sumber penyejatan adalah pembakaran oksidasi yang dipanaskan , atau disebabkan oleh molekul udara blok perlanggaran, sukar membentuk filem nipis yang berterusan. Oleh itu penting untuk mempunyai vakum yang stabil, dan proses penyejatan juga melibatkan teori tekanan wap tepu bahan. Oleh itu, anda juga perlu tahu tentang tekanan wap tepu untuk memahami proses penyejatan.
IKS PVD, peralatan salutan penyejatan, hubungi: iks.pvd@foxmail.com
