Teknologi Sputtering Magnetron Nadi berkuasa tinggi

Teknologi sputtering magnetron nadi berkuasa tinggi

Teknologi sputtering magnetron berdenyut kuasa tinggi menggunakan nyahcas plasma berdenyut pada proses sputtering magnetron. Ia adalah sejenis teknologi sputtering berdenyut yang menggunakan kuasa puncak nadi yang lebih tinggi dan kitaran tugas nadi yang lebih rendah untuk mencapai pengionan tinggi atom terpercik sasaran. Teknologi sputtering magnetron berdenyut kuasa tinggi menggabungkan kelebihan pemendapan suhu rendah, permukaan licin dan tiada kecacatan zarah, serta kelebihan kadar pengionan tinggi, daya ikatan berasaskan filem yang kuat dan salutan padat penyaduran emas arka ion. Rasuk zarah termendap dengan kadar pengionan yang tinggi tidak mengandungi kekotoran zarah yang besar seperti "titisan logam". Ia mempunyai kelebihan teknikal yang ketara dalam mengawal struktur mikro salutan, mendapatkan daya ikatan asas filem yang sangat baik, mengurangkan tekanan dalaman salutan, dan meningkatkan ketumpatan dan keseragaman salutan. Penyediaan salutan keras oleh percikan magnetron berdenyut berkuasa tinggi telah menjadi salah satu titik panas penyelidikan semasa, dan teknologi ini juga telah mencapai kemajuan yang memuaskan dalam pemendapan salutan (Cr,Ti,Al) N, yang merupakan teknologi pemendapan wap fizikal dengan prospek yang luas.

Syarikat IKS PVD, mesin salutan hiasan, mesin salutan alat, mesin salutan DLC, mesin salutan optik, talian salutan vakum PVD, projek kunci-kunci tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mel: iks.pvd@foxmail.com