Pemendapan Wap Kimia (CVD)

Pemendapan Wap Kimia (CVD) ialah teknik pemendapan filem nipis yang digunakan secara meluas berdasarkan tindak balas kimia antara bahan tindak balas gas dan permukaan substrat. Dalam CVD, gas prekursor dimasukkan ke dalam ruang tindak balas dan dipanaskan pada suhu tinggi untuk memudahkan tindak balas kimia memendapkan filem pepejal pada substrat.

Syarikat IKS PVD, mesin salutan hiasan, mesin salutan alat, mesin salutan DLC, mesin salutan optik, talian salutan vakum PVD, projek kunci-kunci tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mel: iks.pvd@foxmail.com