Apakah prinsip penyaduran vakum warna pelangi?

Apakah prinsip penyaduran vakum warna pelangi?

Jarak dari sumber penyejatan ke substrat mestilah kurang daripada jalur bebas rata-rata molekul wap dalam baki gas untuk mengelakkan interaksi kimia yang disebabkan oleh perlanggaran molekul wap dengan molekul gas yang tinggal. Tenaga kinetik purata molekul wap adalah kira-kira 0.1 ~ 0.2 elektron volt. Terdapat tiga jenis sumber penyejatan. (1) Sumber pemanasan rintangan: dengan logam tahan api seperti tungsten, tantalum yang terbuat dari foil kapal atau filamen, dengan arus elektrik, pemanasan di atasnya atau diletakkan di dalam wadah bahan penyejat. Sumber pemanasan rintangan digunakan terutamanya untuk menguap Cd, Pb, Ag, Al, Cu, Cr, Au, Ni dan bahan lain. Sumber pemanasan aruhan frekuensi tinggi: pemanasan wadah dan penyejatan dengan arus aruhan frekuensi tinggi; (3) Sumber pemanasan sinar elektron: sesuai untuk bahan dengan suhu penyejatan yang tinggi (tidak kurang dari 2000 [618-1]), iaitu bahan yang dihujani dengan sinar elektron untuk membuatnya menguap. Berbanding dengan kaedah pelapisan vakum yang lain, lapisan penyejat mempunyai kadar pemendapan yang lebih tinggi dan boleh digunakan untuk menyediakan filem sebatian sederhana yang tidak mudah terurai oleh haba. Kaedah epitaxy rasuk molekul boleh digunakan untuk mendapan lapisan kristal tunggal dengan ketulenan tinggi. Pertumbuhan - lapisan kristal tunggal GaAlAs yang didopingkan alat epitaxy rasuk molekul. Relau jet dilengkapi dengan sumber sinar molekul, dan ketika dipanaskan ke suhu tertentu di bawah vakum ultra tinggi, unsur-unsur di dalam relau dikeluarkan ke substrat dalam aliran sinar molekul. Apabila substrat dipanaskan hingga suhu tertentu, molekul-molekul yang tersimpan pada substrat dapat berpindah, dan urutan pertumbuhan kristal kisi substrat dapat diperoleh dengan epitaxy sinar molekul. Nisbah stoikiometri yang diperlukan untuk filem kristal tunggal sebatian berkurnian tinggi dapat diperoleh. Kadar pertumbuhan filem yang paling perlahan dapat dikawal dalam masa 1 saat. Dengan mengawal penyekat, filem nipis kristal tunggal dari komposisi dan struktur yang diperlukan dapat dibuat dengan tepat.

Syarikat PVD IKS, mesin pelapis hiasan, mesin pelapisan alat, mesin pelapis optik, garisan cetakan vakum PVD. Hubungi kami sekarang, E-mel: iks.pvd@foxmail.com