pelbagai jenis peralatan CVD

Terdapat pelbagai jenis peralatan CVD. Pada masa ini, PECVD ialah teknologi arus perdana, dan bahagian pasarannya dijangka terus meningkat pada masa hadapan. CVD, teknologi baharu yang dibangunkan dalam beberapa dekad kebelakangan ini untuk menyediakan bahan bukan organik, merujuk kepada proses di mana bahan dalam keadaan gas atau wap bertindak balas pada fasa gas atau antara muka pepejal gas untuk menghasilkan sedimen pepejal. Pemendapan wap kimia (CVD) telah digunakan secara meluas untuk menulenkan bahan, membangunkan kristal baharu, dan mendepositkan semua jenis bahan filem nipis bukan organik tunggal kristal, polihablur atau berkaca. Bahan ini mungkin oksida, sulfida, nitrida, karbida, atau sebatian interelemen binari atau multivariat kumpulan III-V, II-IV, dan IV-VI, dan fungsi fizikalnya boleh dikawal dengan tepat oleh proses pemendapan doping fasa gas. Kebolehulangan salutan CVD dan liputan langkah adalah baik, dan boleh digunakan untuk SiO2, Si3N4, PSG, BPSG, TEOS, dan filem sederhana lain, serta semikonduktor, logam (W), semua jenis pemendapan filem sebatian logam-organik. Terdapat banyak jenis CVD, yang boleh dibahagikan secara kasar kepada APCVD, LPCVD, SACVD, PECVD, MOCVD, dan kategori lain mengikut tekanan ruang dan tenaga luaran. Peralatan CVD mudah diperolehi sumber tindak balas, komponen salutan adalah pelbagai, dan peralatannya agak mudah, terutamanya sesuai untuk permukaan bahagian bentuk kompleks dan salutan lubang dalam.

Syarikat IKS PVD, mesin salutan hiasan, mesin salutan alat, mesin salutan DLC, mesin salutan optik, talian salutan vakum PVD, projek kunci-kunci tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mel:iks.pvd@foxmail.com