Penyejatan vakum dan salutan sputtering
Nov 21, 2022| Penyejatan vakum dan salutan sputtering
Kaedah salutan penyejatan vakum (dirujuk sebagai salutan penyejatan vakum) ialah kaedah memanaskan bahan mentah yang akan dibentuk menjadi filem dalam bekas penyejatan dalam ruang vakum untuk mengewapkan atom atau molekulnya dari permukaan untuk membentuk aliran wap, kejadian pada permukaan pepejal (dipanggil substrat atau substrat), pemeluwapan untuk membentuk filem pepejal. Salutan sputtering merujuk kepada proses menggunakan zarah berfungsi untuk membedil permukaan bahan sasaran di bawah keadaan vakum supaya atom permukaan bahan sasaran boleh memperoleh tenaga yang mencukupi dan melarikan diri. Bahan sasaran sputtering didepositkan pada permukaan substrat, yang dipanggil salutan sputtering. Ion kejadian dalam filem salutan sputtering biasanya diperoleh melalui nyahcas cahaya dalam julat 10^-2Pa ~ 10Pa, jadi zarah-zarah yang terpercik mudah berlanggar dengan molekul gas dalam ruang vakum dalam proses terbang. kepada matriks supaya arah gerakan adalah rawak dan filem yang dimendapkan mudah menjadi seragam. Perkembangan skala salutan sputtering magnetron, kadar pemendapan adalah tinggi, kebolehulangan proses adalah baik, mudah untuk mengautomasikan, telah sesuai untuk salutan hiasan seni bina berskala besar, dan salutan berfungsi bahan industri, dan jenis TGN-JR dengan berbilang arka atau magnetron sputtering di permukaan plastik buih gegelung dan penyaduran kain gentian nikel Ni dan perak Ag.
Syarikat IKS PVD, mesin salutan hiasan, mesin salutan alat, mesin salutan DLC, mesin salutan optik, talian salutan vakum PVD, projek kunci-kunci tersedia. Hubungi kami sekarang, E-mel:iks.pvd@foxmail.com