Perbezaan prinsip antara salutan vakum dan salutan optik

Perbezaan prinsip antara salutan vakum dan salutan optik

1, Salutan vakum adalah aspek penting dalam bidang aplikasi vakum, ia berdasarkan teknologi vakum, penggunaan kaedah fizikal atau kimia, dan penyerapan rasuk elektron, rasuk molekul, rasuk ion, rasuk plasma, frekuensi radio dan magnetron dan siri teknologi baru, untuk penyelidikan saintifik dan pengeluaran sebenar untuk menyediakan proses baru penyediaan filem. Dalam istilah yang mudah, penyejatan atau muncung logam, aloi, atau kompaun dalam vakum untuk mengukuhkan dan mendepositkan pada objek bersalut (dipanggil substrat, substrat, atau matriks).

2. gangguan optik digunakan secara meluas dalam optik filem nipis. Kaedah biasa teknologi filem nipis optik adalah untuk salutan filem nipis pada kaca substrat oleh vakum, yang secara amnya digunakan untuk mengawal pembalik dan transmisi substrat kepada pancaran insiden, untuk memenuhi keperluan yang berbeza. Untuk menghapuskan kerugian refleksi pada permukaan bahagian optik dan meningkatkan kualiti imej, lapisan atau pelbagai lapisan filem sederhana telus disalut, yang dipanggil filem anti-refleksi atau filem anti-refleksi.
Dengan pembangunan Teknologi laser, terdapat keperluan yang berbeza pada pembalik dan transmisi lapisan filem, yang menggalakkan pembangunan pelbagai Ayer tinggi refleksi filem dan wideband anti-refleksi filem. Untuk pelbagai aplikasi, polarizable filem mencerminkan, filem spsampah warna, filem sejuk dan penapis gangguan dihasilkan dengan filem refleksi yang tinggi. Selepas salutan permukaan bahagian optik, cahaya terlihat dan dihantar pada lapisan filem untuk banyak kali, membentuk gangguan pelbagai rasuk. Indeks refraktif dan ketebalan lapisan filem dikawal, dan pengagihan intensiti yang berbeza boleh diperolehi. Ini adalah prinsip asas salutan gangguan.

IKS PVD Mesin salutan optik IKS-OPT2700, maklumat lanjut, hubungi kami sekarang, e-mel: iks.pvd@foxmail.com