Konsep proses pelapisan sputtering
Aug 14, 2020| Konsep proses pelapisan sputtering
Lapisan sputtering yang disebut merujuk kepada kaedah membuat filem dengan mengebom bahan sasaran dengan zarah bermuatan tenaga (seperti ion positif) di ruang vakum, sehingga atom atau kumpulan di permukaan bahan sasaran dapat melepaskan diri. Atom yang melarikan diri membentuk filem di permukaan benda kerja dengan komposisi yang sama dengan bahan sasaran. Kaedah penyediaan filem ini disebut lapisan sputtering. Pada masa ini, kaedah sputtering digunakan terutamanya untuk membentuk filem logam atau aloi, terutamanya untuk membuat filem reflektor inframerah permukaan elektrod dan kaca. Selain itu, sputtering juga digunakan untuk menyiapkan filem fungsional, seperti filem seramik konduktif telus in2O3-sno2 dalam peranti paparan kristal cair.
Syarikat PVS IKS, mesin pelapis hiasan, mesin pelapis alat, mesin pelapis optik, garisan cetakan vakum PVD. Hubungi kami sekarang, E-mel: iks.pvd@foxmail.com