Kemajuan Baru Teknologi Pembersihan Ultrasonik

1. Pembersihan ultrasonik kekerapan yang tinggi

Bagi zarah kotoran ultra tipis seperti beberapa micrometers pada permukaan wafer silikon, pembersih ultrasonik konvensional tidak boleh melakukan apa-apa, walaupun meningkatkan ketumpatan kuasa tidak membantu. Baru-baru ini, teknologi pembersihan ultrasonik frekuensi tinggi dengan tahap megahertz telah dibangunkan. Oleh kerana frekuensi tinggi, kesan peronggaan tidak lagi berkesan. Oleh itu, kunci untuk pembersihan bukanlah gelembung udara, yang merupakan tindakan menggosok gelombang tekanan frekuensi tinggi, dan kadar penyingkiran kotoran adalah hampir 100%. Pembersihan frekuensi tinggi telah berkembang pesat baru-baru ini dan digunakan terutamanya untuk pembersihan kotoran pada cip litar bersepadu ultra-skala besar, serta pembersihan kotoran khas seperti wafer silikon, seramik, dan fotomas.

2. Pembersihan yang difokuskan

Untuk pembersihan objek microporous seperti spinnerets dan penapis dalam industri tekstil, kesan pembersihan ultrasonik konvensional sangat tidak memuaskan dan intensiti bunyi tidak memenuhi keperluan, sementara pengimbasan mekanikal yang difokuskan pada pembersihan ultrasonik digunakan, dan pencemaran dalam micropore daripada spinneret sangat jelas. Pembersihan yang difokuskan memerlukan intensiti bunyi yang tinggi, dan kekerapan yang dipilih pada masa ini adalah terutamanya kekerapan rendah. Biasa 20kHz dan 15kHz dua jenis frekuensi, dan kekerapan individu juga 28kHz, kuasa elektrik pada umumnya 500-700W dalam keadaan gelombang berterusan, keadaan kerja jurang nadi, kuasa boleh menjadi lebih tinggi.

3. Pembersihan pelbagai frekuensi

Dalam tangki pembersihan, dua atau lebih transduser dengan frekuensi yang berbeza dipasang, dan beberapa penjana masing-masing memacu transduser frekuensi masing-masing. Apabila kekerapan operasi mesin basuh tinggi, kekuatan cavitation cecair adalah rendah dan ketumpatan peronggaan tinggi, tetapi sebaliknya berlaku apabila frekuensi operasi rendah. Gelombang ultrasonik rendah frekuensi mempunyai keamatan yang tinggi dan baik untuk membersihkan permukaan objek. Ketumpatan perparasan ultrasonik tinggi tinggi tinggi, dan gelombang kejutan boleh menembusi melalui struktur halus seperti alur, celah, dan lubang dalam. Pada masa yang sama, masalah pembersihan yang tidak sekata yang disebabkan oleh pembersihan frekuensi tunggal yang berdiri gelombang gelombang akan diatasi.

4. Menyapu kekerapan dan kekerapan melompat pembersihan

Membersihkan kekerapan dan kekerapan melompat pembersihan semuanya bertujuan untuk memperbaiki struktur medan bunyi dalam slot. Yang pertama menyelesaikan medan gelombang berdiri yang tidak rata di dalam slot dan membuat seragam pembersihan, sementara frekuensi melompat dan multi-frekuensi mengambil kira pembersihan frekuensi tinggi dan rendah. Perbezaannya ialah frekuensi melompat menggunakan transduser dan penjana, dan transducer itu sendiri mempunyai dua frekuensi resonansi.