Bekalan Kuasa Magnetron Bercanggih Tinggi Kuasa Tinggi

Kelebihan Power Sputtering Magnetron Sputtering Teknologi Tinggi (HIPIMS) ◆ Daya dorongan DC magnetron konvensional dibatasi oleh tekanan haba sasaran. ◆ Kebanyakan tenaga collisional ion boleh terus ditukar kepada tenaga haba sasaran. ◆ Sumber kuasa magnetron berdenyut ...

Hantar pertanyaan
Muat turun

pengenalan produk

Kelebihan Teknologi Tinggi Spektroskopi Magnetron Pulsed Tinggi ( HIPIMS )

◆ Daya dorongan magnetron DC konvensional dibatasi oleh tekanan haba sasaran.

◆ Kebanyakan tenaga collisional ion boleh terus ditukar kepada tenaga haba sasaran.

◆ Sumber kuasa magnetron berdenyut memastikan daya nadi tinggi dan kitaran tugas rendah.

◆ Sumber kuasa magnetron berdenyut boleh terus menggantikan sumber kuasa magnetron DC.

Perbandingan antara Pelepasan Magnetron Sputtering yang Berputar Tinggi dan Pelepasan DC Magnetron Sputtering

Ciri-ciri Power Magnetron berdenyut tinggi Pelepasan Sputtering	Ciri-ciri Dc Magnetron Sputtering Discharge
Voltan pelepasan katod adalah 500 ~ 2000 V, kepadatan arus adalah sehingga 3 ~ 4A / cm ² .	Keamatan medan magnet adalah 0.01 ~ 0.05 T manakala voltan kerja adalah 300 ~ 700 V di bawah magnetron DC biasa tekanan kerja sputtering (1 ~ 10 mTorr).
Ketumpatan elektron berhampiran permukaan substrat: 10 ¹⁸ ~ 10 ¹⁹ m ^- ³	Ketumpatan elektron berhampiran permukaan substrat: 10 ¹⁵ ~ 10 ¹⁶ m-3
Ketumpatan kuasa: 1 ~ 3kW / cm ²	Kadar pengionan rendah (~ 1%) daripada sasaran semasa sputtering.
Kekerapan: 100 ~ 1000Hz	Ion gas inert adalah dalam majoriti
Kitaran tugas: 1% ~ 10%	Peralatan pengionan tambahan tambahan (RF of gelombang mikro) diperlukan.

Ciri-ciri Bekalan Kuasa Elektrik Berputar Tinggi Kuasa Tinggi

◆ Pelepasan elektrod yang positif dan negatif dikawal oleh suis berkelajuan tinggi untuk mengelakkannya memasuki kawasan pelepasan arka dari kawasan pelepasan cahaya yang tidak normal di magnetron sputtering tradisional. Ketumpatan semasa adalah sehingga 1018- 1019 / m3, yang sangat tinggi berbanding dengan magnetron sputtering tradisional. Dan dengan kadar ionisasi yang sangat tinggi 80% -99%, ia dapat dengan mudah menyimpan pelbagai filem canggih dengan lekatan yang kuat.

◆ Kuasa berkuasa magnetron sputtering berdenyut tinggi memberikan ciri-ciri filem yang lebih baik dari segi konsistensi filem, kekerasan, rintangan haus dan lekatan.

◆ Dengan kuasa dorongan yang tinggi dan kitaran tugas yang rendah, kuasa tinggi yang berdenyut magnetron sputtering bekalan kuasa boleh menggantikan DC magnetron sputtering sumber kuasa secara langsung tanpa mengubah peralatan salutan magnetron sputtering asal.

◆ Teknologi penindasan arka PHP memastikan pengguna dapat mengawal kualiti filem yang lebih mudah dalam proses rawatan permukaan. Dengan ciri-ciri penstabilan voltan dan rampasan kuasa ideal, bekalan kuasa dapat menghalang pelarasan permukaan bahan kerja dengan berkesan, dan dengan ketara meningkatkan hasil pengeluaran, kehalusan permukaan dan lekatan filem kepingan plating.

◆ Kekuatan kuasa magnetron berdenyut tinggi mengamalkan teknologi sumber kuasa pensuisan tinggi inverter maju dan kuasa tinggi IGBT modul kuasa.

◆ Menggunakan mikropengawal skrin sentuh, bekalan kuasa sangat bersepadu dan berkuasa dengan operasi yang mudah. Paparan arus dan voltan adalah sangat jelas dan intuitif. Juga, ia menyokong fungsi penghalaan berkelajuan tinggi dan fungsi denyutan berkelajuan tinggi.

◆ Bekalan kuasa mempunyai ciri-ciri perlindungan untuk over-current, over-voltage dan over temperature.

◆ Bekalan kuasa boleh berkomunikasi dengan komputer hos melalui port digital seperti RS232, RS485, WIFI dan sebagainya, yang memperluaskan fungsi kawalannya.

Spesifikasi produk

Model Produk	EP50A80H
Input Kuasa & Kekerapan (V / Hz) Tiga Fasa Dan Empat Kawat	AC380 + N
Input Kuasa & Kekerapan (V / Hz) Tiga Fasa Dan Empat Kawat	60Hz
Julat Semasa Keluaran (A)	0 ~ 500
Ketepatan Untuk Voltag Tetap dan Masa Tetap	≤1%
Voltan Output Rated (DCV)	800
Kuasa Maksimum Maksimum (KW)	40
Kuasa puncak (KW)	400
Kitar tugas (%)	<>
Berat (KG)	60
Dimensi Luar (MM)	575 (D) × 480 (W) × 250 (H)
Gred Penebat	B
Produktiviti (%)	90
Kelas Perlindungan Lampiran	Ip21
Mod operasi	Voltan Yang Berterusan, Mod Kekal Semasa Dan Kekal Selanjar adalah pilihan.
Mod Penyejukan	Penyejukan air
Antara Muka Luar	Produk Siri ini semua Adaptasikan Microcontroller Skrin Sentuh

Perbandingan antara Kuasa Daya Sputtering Impulse Daya Tinggi EP50A80H dan Produk Lain

	Daya dorong tinggi Magnetron Sputtering
Jenama	Huttinger	Hauzer	IKS
Model	Truplasma Highpulse 4000	HIPIMS +	EP50A80H
Kuasa Purata Maksimum	20KW	20KW	40KW
Kuasa puncak	1MW ~ 8MW	360KW	400KW
voltan	1KV, 2KV	800	800
Semasa	1KA, 2KA, 4KA	600	500
Pengesanan Arc	<>	<>	<>
Pembungkusan (B * H * T)	483x635x676	null	480x268x700

Kelebihan Kuasa Berkilau Magnetron Sputtering Tinggi Kuasa EP50A80H

◆ Kebolehpercayaan yang tinggi

EP50A80H menyediakan ciri-ciri filem yang lebih baik dari segi konsistensi filem, kekerasan, rintangan haus dan lekatan.

◆ Teknologi penindasan arka yang sangat baik

EP50A80H mengamalkan teknologi penindasan arka PHP, jadi pengguna dapat dengan mudah mengawal kualiti filem dalam proses rawatan permukaan untuk mendapatkan struktur filem yang lebih baik.

◆ Keserasian yang baik

EP50A80H boleh menggantikan bekalan kuasa magnetron sputtering sedia ada secara langsung. Daripada menggantikan bahan katod dan medan magnet, pengguna hanya perlu menukar sistem penyejukan.

◆ Tinggi nisbah kuasa-ke-jumlah

Nisbah isipadu kuasa tinggi menjadikan pemasangan pemasangan peralatan lebih mudah bagi pengguna.

Permohonan

Kuasa tinggi MF magnetron sputtering sumber kuasa digunakan secara meluas dalam bidang penyelidikan saintifik, fizikal, kimia, perubatan dan pelbagai sains, ia dapat memenuhi pelbagai keperluan proses terutamanya dalam peralatan salutan vakum.